叠层电容_叠层电容

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叠层电容

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叠层电容自动化设备金融界2024年3月19日消息,据国家知识产权局公告,北京元六鸿远电子科技股份有限公司申请一项名为“一种提高MLCC叠层错位精度的识别结构“公开号CN117727573A,申请日期为2023年12月。专利摘要显示,本发明公开了一种提高MLCC叠层错位精度的识别结构,属于电容器技术领说完了。

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叠层复式房装修图片金融界2024年2月8日消息,据国家知识产权局公告,长鑫存储技术有限公司取得一项名为“电容阵列结构及其制备方法“授权公告号CN109065501B,申请日期为2018年7月。专利摘要显示,本发明提供一种电容阵列结构及其制备方法,包括:于半导体衬底上形成叠层结构;刻蚀叠层结构形成是什么。

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